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PEALD
高密度远程ICP等离子体
高精度沉积控制系统
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产品描述
参数
| 配置 | 性能指标 | 可沉积薄膜种类 |
| 基片尺寸 | 标准4/6/8英寸 |
单 质： 氮化物： 氧化物： |
| 加热温度 | RT-400℃ | |
| 前驱体源路数 | 2-6路前驱体源 | |
| 源加热温度 | 最高200℃ | |
| ALD阀 | swagelok，响应时间＜10ms | |
| 本底真空 | 5×10-3Torr 或 5×10-6Torr（加分子泵） | |
| 控制系统 | PLC+工控机 | |
| 等离子体源 | 标准300W感应耦合远程等离子体 | |
| 电源 | 50-60Hz, 380V/16A 交流电 | |
| 沉积非均匀性 | 非均匀性＜±1%（Al2O3） |
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