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PEALD
高密度远程ICP等离子体
高精度沉积控制系统
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产品描述
参数
配置 | 性能指标 | 可沉积薄膜种类 |
基片尺寸 | 标准4/6/8英寸 |
单 质: 氮化物: 氧化物: |
加热温度 | RT-400℃ | |
前驱体源路数 | 2-6路前驱体源 | |
源加热温度 | 最高200℃ | |
ALD阀 | swagelok,响应时间<10ms | |
本底真空 | 5×10-3Torr 或 5×10-6Torr(加分子泵) | |
控制系统 | PLC+工控机 | |
等离子体源 | 标准300W感应耦合远程等离子体 | |
电源 | 50-60Hz, 380V/16A 交流电 | |
沉积非均匀性 | 非均匀性<±1%(Al2O3) |
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