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ALD-D原子层沉积机

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ALD-D原子层沉积机

我公司现已交付量产TALD-K机型单炉5000片基准片,并可沉积1米×1米以上基片
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产品描述
参数

原子层沉积技术特点: 饱和化学吸附并成膜 高保形性、复杂表面成膜、组分和厚度精确控制

 

 

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