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科民ALD实现高质量依(Ir)单质沉积
- 分类：公司新闻
- 发布时间：2019-01-10
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【概要描述】金属铱单质在光学器件、催化等领域具有广泛的应用前果。科民电子利用PE-ALD设备攻克了铱源前驱体不易扩散等难点，成功实现高质量单质铱SEM结果显示(Ir）镀膜均匀,无空隙，完全满足高端用户的需求。
科民ALD实现高质量依(Ir)单质沉积
【概要描述】金属铱单质在光学器件、催化等领域具有广泛的应用前果。科民电子利用PE-ALD设备攻克了铱源前驱体不易扩散等难点，成功实现高质量单质铱SEM结果显示(Ir）镀膜均匀,无空隙，完全满足高端用户的需求。
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科民ALD实现高质量依(Ir)单质沉积
金属铱单质在光学器件、催化等领域具有广泛的应用前果。科民电子利用PE-ALD设备攻克了铱源前驱体不易扩散等难点，成功实现高质量单质铱SEM结果显示(Ir）镀膜均匀,无空隙，完全满足高端用户的需求。
SEM 50K:ALD Ir thin film、PEALD设备
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