2016/07/04
2016年7月1日上午，国际二维材料大会专家团莅临嘉兴科民电子设备技术有限公司考察访问。我公司总经理陈波陪同专家团参观了公司的各个生产车间并进行了诚挚的交流。其中，沙特籍专家对我司生产的ALD表现出了浓厚的兴趣，在听取完相关介绍后对我公司的设计能力、生产能力等各方面的情况给予了充分的肯定。另外，专家团中不乏我司设备用户，经过这次现场考察，客户表示，看到了公司的整体实力，对我公司未来的发展充满了信心。
2016/08/08
“第三十三届国际半导体物理大会”（ICPS-33）于2016年7月31日至8月5日在北京召开。我司携手北京泰龙电子技术有限公司参加本次会议。会议中我公司凭借卓越的品质和领先的技术获众多国际国内学者、专家关注。
2016/08/10
近日，中国科学院上海技术物理研究所红外物理国家重点实验室胡伟达研究员、武汉大学廖蕾教授等研究人员在Advanced Functional Materials上发表研究文章：“High-SensitivityFloating-Gate Phototransistors Based on WS2 and MoS2” （DOI: 10.1002/adfm.201601346）。该文章论述了研究人员在浮栅结构二维材料光电探测器研究方面取得的进展。嘉兴科民电子设备有限公司研发的KEMICRO-TALD200A型机器在该器件中完成了隧穿和阻隔氧化物的工作，成功助力该光电探测器的研发工作。
2016/10/25
近日，嘉兴科民电子设备有限公司生产型原子层沉积设备成功通过大型微电子、MEMS制造企业产线验证，成为国内首个进入大批量制造产业化市场的原子层沉积机型。
2016/11/02
11月2日上午，中科院理化所张丽萍所长、汪鹏飞所长、张阳处长一行3人在浙江中科院应用技术研究院尤建宏部长的陪同下来我司参观考察，公司董事长夏洋、副总经理万军、研发部部长张柏诚热情接待。
嘉兴科民电子携生产型ALD设备参加Semicon China 2017
2017/03/20
2017年3月16日，Semicon China 2017半导体展在上海新国际博览中心圆满落幕。嘉兴科民电子携生产型ALD设备、RIE设备如邀参展，展示了公司在原子层沉积领域的技术实力与专业精神。
