自主创新再获认可｜科民电子 TALD-200 原子层沉积装备获评嘉兴市首台（套）

发布时间:

2026/10/16

近日，2026 年度嘉兴市制造业首台（套）装备认定名单正式公布，嘉兴科民电子设备技术有限公司自主研发的TALD-200 原子层沉积（ALD）系统成功入选。该装备凭借自研核心技术、稳定可靠的设备性能，获市级权威认定，标志着企业在半导体原子层沉积国产化装备领域实现重要突破。

首台（套）装备认定，是对装备产品自主创新水平、核心技术、知识产权、产业化能力的官方权威评价，重点支持具有自主知识产权、填补区域空白、技术达到行业先进水平的重大装备。

本次入选的TALD-200 原子层沉积系统，由嘉兴科民电子团队独立开发，面向半导体薄膜工艺应用。设备可实现高精度、高均匀性超薄介质薄膜沉积，满足科研及产业化客户对高品质薄膜制备需求；设备核心部件、工艺控制软件均实现自主研发，具备完整知识产权体系，有效降低半导体薄膜装备对外技术依赖。

原子层沉积（ALD）作为先进薄膜制备核心工艺，广泛应用于半导体器件、微纳传感、光学器件等领域。长期以来，高端 ALD 装备市场高度依赖进口。嘉兴科民电子深耕原子层沉积装备研发，持续攻克腔室设计、真空控制、前驱体输送、工艺控制等多项关键技术难题，打造国产化、高性价比的 ALD 设备方案，为长三角区域半导体、微纳制造产业提供国产装备新选择。

本次入选嘉兴市首台（套）装备，是政府主管部门对公司技术创新成果的肯定，也是新的起点。公司将继续聚焦原子层沉积装备的迭代升级，持续完善设备性能与工艺配套能力，坚持自主创新，强化知识产权保护，为国内微纳薄膜制造领域提供稳定可靠的国产装备，助力区域先进制造业高质量发展。

未来，科民电子将持续加大研发投入，依托首台（套）政策赋能，加速产品市场化推广，以国产化 ALD 装备助力半导体与微纳产业自主可控。