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科民介绍

COMPANY  PROFILE

嘉兴科民电子设备技术有限公司

企业优势

公司介绍

海外微电子设备制造团队与中科院微电子所8室专家共同成立
国内最大的原子层沉积(ALD)设备制造商
4000余平方米的研发及生产基地
30多人的研发及制造团队。

 

生产场地 

符合半导体行业6S管理规定的生产场地,标准化生产
严格的设备工艺验证,保证每台设备的质量

 

企业优势

发展与规划

未来

未来

继续
2019年

2019年

单炉5000片2寸片设备通过产线验证
2018年

2018年

2017年

2017年

进入某行业龙头企业,获多台订单
2016年

2016年

国内首家成功进入产业化市场的ALD设备厂商
2013年

2013年

助力复旦成功研制半浮栅晶体管SFGT
2012年

2012年

2010年

2010年

4月 公司成立
上一页
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我们的优势

产品优势

厂区独立的加工检测能力

 

生产场地具有进口晶圆测温仪(用于晶圆表面实际温度的测量和校准)、进口真空检漏仪(用于保障整个沉积系统的真空漏率达标)、swgaelok原装进口管路连接器(保障前驱体源输送的可靠性)

 

产品优势

产线验证

 

从2015年至2019年,公司设备为唯一在国内多家大型半导体/MEMS生产企业通过产线验证的ALD机型,稳定工作3年以上

 

产品优势

研发支持

 

中科院微电子所具有千级净化级别700㎡、百级净化级别50㎡,并能方便的进行薄膜性能测试

 

ALD技术

这是描述信息

1970s-第一阶段

ALD的发明
Suntola提出ALD概念并逐渐完善

 

1980s-1990s-第二阶段

ALD的孕育与积累
ALD开始应用于TFT等领域独特的自限制沉积模式优势初显

 

2000s~至今-第三阶段

ALD大规模应用与爆发
ALD开始应用于intel处理器的high-k层并开始大规模应用

应用领域不断拓展

 

能源领域:太阳能电池背面钝化、光伏活性层、防腐镀膜、超亲水/疏水涂层、防尘涂层、锂离子电池材料增效
微电子和微机电领域:存储器件活性层、OLED封装、纳米结构器件、微部件的防腐蚀和抗磨损
光学应用:反射涂层和増透涂层,透镜保护、光栅器件、曲面镀膜
其他:膜结构和多孔结构催化活性层、高效贵金属活性层

 

这是描述信息

 

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