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科民ALD实现高质量依(Ir)单质沉积

科民ALD实现高质量依(Ir)单质沉积

  • 分类:公司新闻
  • 发布时间:2019-01-10
  • 访问量:0

【概要描述】金属铱单质在光学器件、催化等领域具有广泛的应用前果。科民电子利用PE-ALD设备攻克了铱源前驱体不易扩散等难点,成功实现高质量单质铱SEM结果显示(Ir)镀膜均匀,无空隙,完全满足高端用户的需求。

科民ALD实现高质量依(Ir)单质沉积

【概要描述】金属铱单质在光学器件、催化等领域具有广泛的应用前果。科民电子利用PE-ALD设备攻克了铱源前驱体不易扩散等难点,成功实现高质量单质铱SEM结果显示(Ir)镀膜均匀,无空隙,完全满足高端用户的需求。

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科民ALD实现高质量依(Ir)单质沉积

  金属铱单质在光学器件、催化等领域具有广泛的应用前果。科民电子利用PE-ALD设备攻克了铱源前驱体不易扩散等难点,成功实现高质量单质铱SEM结果显示(Ir)镀膜均匀,无空隙,完全满足高端用户的需求。

 

SEM 50K:ALD Ir thin film、PEALD设备

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